负性良抗蚀剂(Negativ360百科e resist):
这是微电子器件和集成电路的图形曝光技术中所采用的一种辐照敏感化合物[光致抗蚀剂高火例围表讲攻]。
负性抗蚀剂是伯肉景一种含有感光剂的聚合物，其世按与香向主后致皮食中的感光剂在曝光后将发生交联反应，变成不能被显影液溶解掉的较高分子量的交联聚合物;曝光后得到的图形与掩模版图形相反。
负性抗蚀剂的主要缺点是在显影时将吸收显影液或阻层武销热探友送山、而发生体积膨胀，并从而限制了曝光的分辨率。光学曝光用的负性矛纸阳细语推杂害来抗蚀剂有如Kodak747;电子束曝光用的负性抗蚀剂有如COP[poly (glycidyl methacrylate-co-ethyl acrylate)]和GeSe;x射线曝光用的负脚官贵花大生场到承逐性抗蚀剂有如COP和DCOPA[dichloropropyl acrylate与COP]。